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반도체 회로
반도체 솔루션 전문기업

새로운 솔루션을 찾는 고객들이 첫 번째 만나는 회사

메타솔은 HBM 메모리, 포토닉 디본딩, TGV 기술 등 첨단 반도체 공정 솔루션을 연구·개발하여 미래를 선도합니다.

2013
설립연도
20+
보유특허
3
핵심기술 분야

핵심 사업 분야

메타솔은 차세대 반도체 패키징 및 소재 기술을 중심으로 글로벌 시장을 선도합니다.

💎
포토닉 디본딩
레이저 기반 임시 접합 해제 기술로 차세대 반도체 적층 패키징의 핵심 공정을 지원합니다.
🔬
TGV 기술
유리 관통 전극(Through Glass Via) 기술로 초소형 고집적 반도체 패키지를 실현합니다.
2차전지
전고체 배터리 및 차세대 에너지 저장 소재 기술 연구를 통해 미래 에너지 시장을 준비합니다.
🧬
소재 엔지니어링
반도체 공정용 고기능성 소재 개발 및 최적화를 통해 품질과 수율을 극대화합니다.

최신 소식

2024.11.15
KIMES 2024 전시회 참가 - 포토닉 디본딩 솔루션 공개
2024.09.03
TGV 기술 특허 취득 - 글로벌 반도체 패키징 시장 진출
2024.06.20
2차전지 소재 연구 과제 선정 - 산업통상자원부 지원

회사소개

미래 반도체 산업을 이끄는 혁신 기업, 메타솔

새로운 솔루션을
찾는 고객의 첫 번째 파트너

메타솔(MetaSOL)은 반도체 첨단 패키징 및 소재 기술 분야의 전문 연구개발 기업입니다. 급변하는 반도체 산업 환경 속에서 고객이 직면한 기술적 과제를 해결하는 최적의 솔루션을 제공합니다.

포토닉 디본딩, TGV(Through Glass Via), 2차전지 소재 등 미래 핵심 기술에 집중적으로 투자하고, 산·학·연 협력을 통해 세계 수준의 기술력을 확보하고 있습니다.

메타솔은 고객과 함께 성장하며, 반도체 산업의 기술 혁신을 선도하는 신뢰할 수 있는 파트너가 되겠습니다.

메타솔 기술

핵심 가치

🔭
미래 지향
10년 앞을 내다보는 기술 로드맵으로 반도체 산업의 미래를 선도합니다.
🤝
고객 중심
고객의 기술적 과제를 우선적으로 이해하고 최적의 솔루션을 제공합니다.
🧪
기술 혁신
끊임없는 연구개발을 통해 세계 최고 수준의 기술력을 추구합니다.
🌍
글로벌 도전
글로벌 파트너십을 통해 세계 시장에서 경쟁력 있는 기업으로 성장합니다.

연혁

메타솔의 기술 혁신 여정

2024
TGV 핵심 특허 취득
유리 관통 전극 공정 기술 국내외 특허 등록 완료
산업통상자원부 R&D 과제 선정
2차전지 고체전해질 소재 개발 과제 수행 기업 선정
2023
포토닉 디본딩 장비 자체 개발 완료
레이저 기반 임시 접합 해제 장비 프로토타입 개발
해외 반도체 기업 기술 협력 체결
일본 및 유럽 파트너와 공동 연구 협력 협약
2022
기업부설 연구소 설립
R&D 전문 인력 확충 및 연구 시설 확장
2020
첫 국내 특허 10건 달성
반도체 소재 및 공정 기술 관련 특허 포트폴리오 구축
2013
메타솔 설립
반도체 첨단 소재 및 공정 기술 전문 기업으로 창업

보유 특허

메타솔의 기술력을 증명하는 지식재산권 포트폴리오

KR 10-2024-XXXXXX
레이저를 이용한 임시 접합 기판 분리 방법 및 장치
등록일: 2024.03
KR 10-2023-XXXXXX
유리 기판 관통 전극 형성 방법
등록일: 2023.11
KR 10-2023-XXXXXX
전고체 배터리용 고이온전도성 산화물 전해질 조성물
등록일: 2023.07
KR 10-2022-XXXXXX
반도체 패키징용 저온 접합 소재 조성물
등록일: 2022.09
KR 10-2022-XXXXXX
HBM 메모리 패키징 공정용 열계면 소재
등록일: 2022.04
KR 10-2021-XXXXXX
다층 반도체 패키지용 언더필 소재 및 제조방법
등록일: 2021.12

응용기술

메타솔의 혁신적인 반도체 응용기술 분야

메타솔 응용기술 개요

메타솔은 차세대 반도체 패키징 기술의 핵심인 포토닉 디본딩, TGV, 2차전지 소재 기술을 중심으로 연구개발을 수행하고 있습니다.

  • 포토닉 디본딩: 레이저 기반 임시 접합 해제 기술
  • TGV: 유리 기판 관통 전극 형성 기술
  • 2차전지: 전고체 배터리 소재 개발 기술
  • 소재 엔지니어링: 반도체 공정용 기능성 소재
반도체 기술

포토닉 디본딩 기술

레이저 광 에너지를 이용하여 임시 접합된 웨이퍼와 캐리어 기판을 손상 없이 분리하는 핵심 공정 기술입니다. HBM 메모리 등 첨단 패키징 공정에 필수적입니다.

  • 레이저 파장 최적화를 통한 정밀 분리 공정
  • 저온 공정으로 소자 손상 최소화
  • 다양한 웨이퍼 크기(200mm, 300mm) 대응
  • 고속 처리로 생산성 극대화

TGV (Through Glass Via) 기술

유리 기판에 미세 관통 전극을 형성하여 고집적 반도체 패키지를 구현하는 기술입니다. 우수한 전기적 특성과 열방출 성능으로 차세대 패키징의 핵심 기술로 주목받고 있습니다.

  • 레이저 드릴링을 통한 고정밀 비아 형성
  • 저유전율 유리 기판 적용으로 신호 손실 최소화
  • 우수한 열방출 특성으로 고성능 패키지 실현
  • 5G/6G 통신, AI 반도체 패키징 적용

2차전지 소재 기술

전고체 배터리를 비롯한 차세대 에너지 저장 시스템에 적용되는 고기능성 소재를 연구·개발합니다. 높은 에너지 밀도와 안전성을 동시에 실현합니다.

  • 고이온전도성 고체전해질 소재 개발
  • 실리콘 음극재 성능 개선 기술
  • 열안정성 향상 소재 개발
  • EV, ESS 대용량 배터리 적용 기술

포토닉 디본딩

레이저 기반 임시 접합 해제 기술

포토닉 디본딩 기술

레이저 광 에너지를 이용하여 임시 접합된 웨이퍼와 캐리어 기판을 손상 없이 분리하는 핵심 공정 기술입니다.

  • 레이저 파장 최적화를 통한 정밀 분리 공정
  • 저온 공정으로 소자 손상 최소화
  • 다양한 웨이퍼 크기(200mm, 300mm) 대응
  • 고속 처리로 생산성 극대화

기술 개요

반도체 첨단 패키징에서는 얇아진 디바이스 웨이퍼를 가공하는 동안 이를 지지하기 위해 캐리어 기판에 임시로 접합(Temporary Bonding)했다가, 후속 공정이 끝난 뒤 다시 분리(Debonding)하는 과정이 필수적입니다. 포토닉 디본딩(Photonic Debonding)은 유리 캐리어를 투과한 펄스형 광대역 광(光) 에너지가 접합층 사이의 광흡수층(Release Layer)에 순간적으로 작용하여, 웨이퍼와 캐리어를 분리하는 기술입니다. 짧은 시간 동안 집중된 광 펄스가 분리층만 선택적으로 반응시키므로, 정밀하고 깨끗한 분리가 가능합니다.

기존 공정 대비 장점

전통적인 디본딩 방식에는 화학 용제로 접착제를 녹이는 방법, 기계적으로 떼어내는 방법, 열을 가해 분리하는 방법이 있습니다. 그러나 강한 화학물질 사용은 환경·안전 부담이 크고, 기계적 박리나 고온 공정은 미세한 소자 구조에 손상을 줄 수 있습니다. 포토닉 디본딩은 상온에 가까운 조건에서 진행되어 소자 손상을 최소화하며, 분리층까지의 초점 거리 편차에 대한 허용도가 높아 휨(Warpage)이 있는 웨이퍼나 20㎛ 이하의 초박형 웨이퍼에도 안정적으로 적용할 수 있습니다.

적용 분야

포토닉 디본딩은 웨이퍼 박막화와 후면(Backside) 공정을 가능하게 하여, 3D TSV(실리콘 관통 전극) 기반 적층 패키징과 팬아웃 웨이퍼 레벨 패키징(FOWLP) 등 이종 소자 집적(Heterogeneous Integration)의 핵심 공정으로 활용됩니다. 이는 HBM(고대역폭 메모리)을 비롯한 차세대 반도체의 고집적·고성능·소형화를 구현하는 데 중요한 역할을 합니다.

TGV 기술

Through Glass Via - 유리 관통 전극 기술

TGV 기술

유리 기판에 미세 관통 전극을 형성하여 고집적 반도체 패키지를 구현하는 기술입니다.

  • 레이저 드릴링을 통한 고정밀 비아 형성
  • 저유전율 유리 기판 적용으로 신호 손실 최소화
  • 우수한 열방출 특성으로 고성능 패키지 실현
  • 5G/6G 통신, AI 반도체 패키징 적용

기술 개요

TGV(Through Glass Via)는 유리 기판을 수직으로 관통하는 미세 전극을 형성하여, 칩과 칩 또는 칩과 기판 사이를 짧은 경로로 연결하는 인터커넥션 기술입니다. 유리 기판에 레이저로 미세한 통로를 만든 뒤 구리 등 전도성 물질로 채워 수직 전기 연결을 구현합니다. 이는 실리콘 인터포저에 사용되는 TSV(Through Silicon Via)에 대응하는 유리 기반 기술로, 2.5D·3D 반도체 패키징을 가능하게 하는 핵심 요소입니다.

유리 기판의 강점

유리는 인터포저 소재로서 여러 장점을 가집니다. 표면 평탄도가 매우 우수하고 강성이 높아 대면적 기판 제작에 유리하며, 열팽창계수(CTE)를 조절할 수 있어 칩과의 정합성을 높일 수 있습니다. 또한 전기적 손실이 낮고 유전율이 낮아 고주파 신호 전달에 적합합니다. 이러한 특성 덕분에 유리 인터포저는 기존 실리콘·유기 인터포저의 한계를 보완하는 차세대 대안으로 주목받고 있으며, 글로벌 반도체 기업들이 잇따라 유리 기판 도입을 추진하고 있습니다.

적용 분야

TGV 기반 유리 인터포저는 고대역폭·고집적 연결이 요구되는 분야에서 활용됩니다. AI 반도체와 고성능 컴퓨팅(HPC), 5G·6G 통신용 RF 모듈, 칩렛(Chiplet) 기반 이종 집적, 팬아웃 패널 레벨 패키징(FOPLP) 등이 대표적입니다. 신호 무결성 향상과 전력 전달 안정성, 소형화·고밀도 배선을 동시에 만족시켜야 하는 차세대 반도체 패키지 설계에 적합한 기술입니다.

2차전지

차세대 에너지 저장 소재 기술

2차전지 소재 기술

전고체 배터리를 비롯한 차세대 에너지 저장 시스템에 적용되는 고기능성 소재를 연구·개발합니다.

  • 고이온전도성 고체전해질 소재 개발
  • 실리콘 음극재 성능 개선 기술
  • 열안정성 향상 소재 개발
  • EV, ESS 대용량 배터리 적용 기술

전고체 배터리란

기존 리튬이온 배터리는 양극재·음극재·분리막과 함께 액체 전해질을 사용합니다. 전고체 배터리는 이 액체 전해질을 고체 전해질로 대체한 차세대 2차전지로, 모든 핵심 구성요소가 고체로 이루어집니다. 고체 전해질은 이온의 이동 통로 역할과 분리막 역할을 동시에 수행할 수 있어, 전지 구조를 단순화하고 안정성을 높이는 데 기여합니다.

핵심 장점

전고체 배터리의 가장 큰 강점은 안전성입니다. 전해질이 불연성 고체이므로 외부 충격에 의한 누액 위험이 없고, 열 안정성이 높아 화재·폭발 위험을 크게 낮춥니다. 또한 분리막을 제거한 공간에 양극·음극 활물질을 더 채울 수 있어 에너지 밀도를 높일 수 있으며, 더 넓은 작동 온도 범위에서 안정적으로 동작합니다. 이러한 특성 때문에 전고체 배터리는 리튬이온 배터리의 한계를 넘어설 '꿈의 배터리'로 평가받습니다.

소재 개발 방향

전고체 배터리의 성능은 고체 전해질 소재에 크게 좌우됩니다. 대표적으로 화학적·열적 안정성이 우수한 산화물계 전해질과, 이온 전도도가 높고 성형성이 우수한 황화물계 전해질이 연구되고 있습니다. 메타솔은 고이온전도성 고체전해질, 실리콘 음극재, 열안정성 향상 소재 등 차세대 에너지 저장 시스템에 필요한 핵심 소재를 연구·개발하며, 전기차(EV)와 에너지저장장치(ESS) 등 대용량 응용 분야를 목표로 합니다.

기술 동향

리튬이온 커패시터(LIC)의 부상

최근 에너지 저장 분야에서는 리튬이온 커패시터(LIC, Lithium-Ion Capacitor)가 차세대 기술로 주목받고 있습니다. LIC는 리튬이온 배터리와 슈퍼커패시터(EDLC)의 장점을 결합한 하이브리드 소자로, 배터리에 쓰이는 음극과 커패시터에 쓰이는 양극(활성탄)을 함께 사용합니다. 즉 배터리의 '높은 에너지 저장'과 커패시터의 '빠른 충·방전'이라는 두 특성의 중간 영역을 채우는 기술입니다.

LIC가 주목받는 이유는 각 방식의 약점을 서로 보완하기 때문입니다. 기존 슈퍼커패시터보다 에너지 밀도가 높으면서 자가방전이 적고, 리튬이온 배터리보다 충·방전 사이클 수명이 훨씬 길며(10만 회 이상 수준) 열폭주 위험이 낮습니다. 이러한 특성 덕분에 빠른 응답성과 긴 수명이 동시에 요구되는 전력 보조, 회생 제동, 산업용 백업 전원 등에서 활용이 확대되고 있습니다. 에너지 저장 기술이 단일 솔루션에서 용도별 최적화로 다변화되는 흐름을 보여주는 대표적인 사례입니다.

R&D 개요

메타솔의 연구개발 철학과 방향

기술 혁신을 향한 끊임없는 도전

메타솔은 매출의 상당 부분을 R&D에 재투자하며, 반도체 소재 및 공정 기술의 한계를 지속적으로 확장합니다.

🔭
시스템 엔지니어링
반도체 패키징 장비 및 공정 시스템 전체를 설계·최적화하는 시스템 레벨 엔지니어링을 수행합니다.
🧪
소재 엔지니어링
반도체 공정에 특화된 기능성 소재를 연구·개발하고, 물성 분석 및 공정 최적화를 수행합니다.
📊
데이터 기반 연구
AI·ML 기반 소재 설계 및 공정 데이터 분석을 통해 연구 효율과 성과를 극대화합니다.

시스템 엔지니어링

반도체 패키징 공정 시스템 설계 및 최적화

메타솔의 시스템 엔지니어링 팀은 포토닉 디본딩, TGV 공정 등 핵심 반도체 패키징 공정의 장비·시스템 설계부터 공정 최적화, 양산 적용까지 전 과정을 담당합니다. 독자적인 레이저 광학 설계 기술과 정밀 기구 설계 역량을 바탕으로 세계 수준의 반도체 공정 장비를 개발하고 있습니다.

반도체 패키징 공정은 광학, 기계, 열, 제어 등 여러 분야가 결합된 복합 시스템입니다. 메타솔은 개별 부품이나 단위 공정이 아니라 공정 시스템 전체를 하나의 통합 관점에서 설계하는 시스템 레벨 엔지니어링을 지향합니다. 이를 통해 장비 간 정합성을 높이고, 공정 변수를 통합적으로 제어하여 수율과 생산성을 동시에 끌어올립니다.

시스템 엔지니어링

소재 엔지니어링

반도체 공정용 기능성 소재 연구개발

메타솔의 소재 엔지니어링 팀은 반도체 패키징 공정에 사용되는 접착 소재, 열계면 소재, 절연 소재, 전해질 소재 등 다양한 기능성 소재를 연구·개발합니다. 소재 물성 분석, 배합 최적화, 양산 공정 적용을 위한 신뢰성 평가까지 체계적인 소재 개발 프로세스를 운영합니다.

첨단 반도체 패키징의 성능과 신뢰성은 소재의 물성에 크게 좌우됩니다. 임시 접합·분리 공정용 접착 소재는 공정 중 견고하게 지지하면서도 손상 없이 분리되어야 하고, 열계면 소재는 발열을 효율적으로 방출해야 하며, 전해질 소재는 높은 이온 전도도와 안정성을 동시에 갖추어야 합니다. 메타솔은 이러한 까다로운 요구 조건을 충족하기 위해 소재 설계부터 합성, 물성 평가, 공정 검증에 이르는 전 주기를 자체 역량으로 수행합니다.

소재 엔지니어링

인재채용

메타솔과 함께 반도체 기술의 미래를 만들어 나갈 인재를 찾습니다

함께 미래를 만들어 가는 메타솔

메타솔은 반도체 기술 혁신을 이끄는 구성원 모두가 각자의 전문성을 발휘하고 성장할 수 있는 환경을 만들어 나가고 있습니다. 첨단 기술 분야에 도전하는 열정적인 인재를 환영합니다.

왜 메타솔인가

🔬
최첨단 기술
반도체 첨단 패키징·소재 기술을 직접 다룹니다.
📈
성장하는 환경
세미나·기술교육을 적극 지원해 함께 성장합니다.
🤝
함께 만드는 팀
수평적으로 소통하며 도전을 환영합니다.
2021
설립연도
20+
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핵심기술 분야
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도전하는 인재
새로운 기술에 도전하고, 실패를 두려워하지 않으며 끊임없이 성장하는 인재
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협력하는 인재
팀과 함께 목표를 달성하고, 다양한 의견을 존중하며 시너지를 창출하는 인재
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창의적인 인재
기존의 틀을 넘어 창의적인 사고로 문제를 해결하는 혁신적인 인재
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전문성 있는 인재
자신의 분야에서 깊은 전문성을 쌓고 지속적으로 역량을 개발하는 인재
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성과급
경영성과에 따른 인센티브 지급
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의료비 지원
본인 및 가족 의료비 지원
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직무 교육 및 자격증 취득 비용 지원
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체육시설
헬스케어 및 체육시설 이용 지원
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주거지원
사택 및 주거비 일부 지원
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채용 문의: metasol@metasol.co.kr

인재상

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팀과 함께 목표를 달성하고, 다양한 의견을 존중하며 시너지를 창출하는 인재
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전문성 있는 인재
자신의 분야에서 깊은 전문성을 쌓고 지속적으로 역량을 개발하는 인재

복리후생

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본인 및 가족 의료비 지원
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주거지원
사택 및 주거비 일부 지원

채용안내

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경력 3년 이상 · 정규직 · 서울/경기
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